标准概要

重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry

国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。主要起草人马农农、何友琴、丁丽。 GB/T 24580-2009 现行本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF 1528-1104。采标中文名称:用二次离子质谱法测量重搀杂N型硅衬底中的硼污染的方法。

基础信息

标准号 GB/T 24580-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

标准号 GB/T 24580-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

起草单位

信息产业部专用材料质量监督检验中心

中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

马农农

何友琴

丁丽

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申明

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