标准概要

碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法

Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司。主要起草人马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩。 GB/T 41153-2021 现行

基础信息

标准号 GB/T 41153-2021

发布日期 2021-12-31

实施日期 2022-07-01

标准号 GB/T 41153-2021

发布日期 2021-12-31

实施日期 2022-07-01

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所

山东天岳先进科技股份有限公司

有色金属技术经济研究院有限责任公司

起草人

马农农

何友琴

何烜坤

李素青

陈潇

刘立娜

张红岩

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申明

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