III族氮化物半导体材料中位错成像的测试 透射电子显微镜法

国家标准《III族氮化物半导体材料中位错成像的测试 透射电子显微镜法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 、苏州纳维科技有限公司 、江苏第三代半导体研究院有限公司 、苏州科技大学 、北京大学 、国家纳米科学中心 、北京大学东莞光电研究院 、东莞市中镓半导体科技有限公司 、ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司 、苏州大学 、山东浪潮华光光电子股份有限公司 、北京国基科航第三代半导体检测技术有限公司 。 主要起草人 曾雄辉 、董晓鸣 、苏旭军 、牛牧童 、王建峰 、徐科 、王晓丹 、徐军 、郭延军 、陈家凡 、王新强 、颜建锋 、敖松泉 、唐明华 、闫宝华 、李艳明 。 GB/T 44558-2024 即将实施