氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法

国家标准《氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 、苏州纳维科技有限公司 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 、哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 、厦门柯誉尔科技有限公司 、山西华晶恒基新材料有限公司 、福建兆元光电有限公司 。 主要起草人 邱永鑫 、徐科 、王建峰 、任国强 、李腾坤 、左洪波 、郑树楠 、刘立娜 、杨鑫宏 、邝光宁 、丁崇灯 、陈友勇 。 GB/T 41751-2022 现行