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硅片参考面结晶学取向X射线测量方法

Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测量方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 北京有色金属研究总院 。 GB/T 13388-1992 废止 GB/T 13388-2009 (全部代替) 本标准等同采用ITU国际标准:ASTM F847:1983。 采标中文名称:。
  基础信息
标准号 GB/T 13388-1992
发布日期 1992-02-19
实施日期 1992-10-01
废止日期 2010-06-01
标准号 GB/T 13388-1992
发布日期 1992-02-19
实施日期 1992-10-01
废止日期 2010-06-01
  起草单位
  北京有色金属研究总院
  起草人
  GB/T 13388-2009  硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
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  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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