标准概要

金属锗化学分析方法第3部分:痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法

Method for chemical analysis of metal germanium—Part 3: Determination of trace impurity elements content—Glow discharge mass spectrometry

国家标准《金属锗化学分析方法第3部分:痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位安徽光智科技有限公司、云南驰宏锌锗股份有限公司、国标（北京）检验认证有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、广东先导稀材股份有限公司、广东飞成新材料有限公司。主要起草人朱赞芳、谭秀珍、廖吉伟、刘红、吴王昌、黎亚文、李瑶、刘英波、李正美、崔丁方、李江霖、段春芳。 GB/T 37211.3-2022 现行

基础信息

标准号 GB/T 37211.3-2022

发布日期 2022-12-30

实施日期 2023-04-01

标准号 GB/T 37211.3-2022

发布日期 2022-12-30

实施日期 2023-04-01

起草单位

安徽光智科技有限公司