标准概要

硅外延层堆垛层错密度测定干涉相衬显微镜法

Test method for stacking fault density of epitaxial layers of silicon by interference-contract microscopy

国家标准《硅外延层堆垛层错密度测定干涉相衬显微镜法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位上海有色金属研究所。 GB/T 14145-1993 废止

基础信息

标准号 GB/T 14145-1993

发布日期 1993-02-06

实施日期 1993-10-01

废止日期 2004-10-14

标准号 GB/T 14145-1993

发布日期 1993-02-06

实施日期 1993-10-01

废止日期 2004-10-14

起草单位

上海有色金属研究所

起草人

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申明

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硅外延层堆垛层错密度测定 干涉相衬显微镜法

硅外延层堆垛层错密度测定干涉相衬显微镜法