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硅抛光片表面质量目测检验方法

Standard method for measuring the surfacequality of polished silicon slices by visual inspection
国家标准《硅抛光片表面质量目测检验方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 上海第二冶炼厂 。 GB 6624-1986 (全部代替) GB/T 6624-1995 废止 GB/T 6624-2009 (全部代替) 本标准等效采用ITU国际标准:ASTM F523:1988。 采标中文名称:。
  基础信息
标准号 GB/T 6624-1995
发布日期 1995-04-18
实施日期 1995-12-01
废止日期 2010-06-01
标准号 GB/T 6624-1995
发布日期 1995-04-18
实施日期 1995-12-01
废止日期 2010-06-01
  起草单位
  上海第二冶炼厂
  起草人
  GB/T 6624-2009  硅抛光片表面质量目测检验方法
  GB/T 4058-2009  硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
  SJ/T 11504-2015  碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
  YS/T 25-1992  硅抛光片表面清洗方法
  20240138-T-469  氮化铝单晶抛光片
  GB/T 43313-2023  碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
  GB/T 19921-2018  硅抛光片表面颗粒测试方法
  SJ/T 10705-1996  半导体器件键合丝表面质量检验方法
  20243062-T-469  金刚石单晶抛光片
  20240142-T-469  蓝宝石单晶衬底抛光片
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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