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非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法

Test method for deep level EL2 concentration of undoped semiinsulating monocrystal gallium arsenide by measurement infra-red absorption method
国家标准《非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 电子工业部第四十六研究所 。 GB/T 17170-1997 废止 GB/T 17170-2015 (全部代替)
  基础信息
标准号 GB/T 17170-1997
发布日期 1997-12-22
实施日期 1998-08-01
废止日期 2016-07-01
标准号 GB/T 17170-1997
发布日期 1997-12-22
实施日期 1998-08-01
废止日期 2016-07-01
  起草单位
  电子工业部第四十六研究所
  起草人
  GB/T 17170-2015  半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法
  GB/T 19199-2015  半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法
  SJ/T 11488-2015  半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法
  SJ/T 11496-2015  红外吸收法测量砷化镓中硼含量
  SJ/T 11864-2022  半绝缘型碳化硅单晶衬底
  GB/T 42271-2022  半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法
  GB/T 8760-2020  砷化镓单晶位错密度的测试方法
  SJ/T 10625-1995  锗单晶中间隙氧含量的红外吸收测量方法
  GB/T 13389-2014  掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
  20241934-T-469  太阳能电池用砷化镓单晶及抛光片
  推荐标准
  申明
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