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  标准概要

硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法

Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection
国家标准《硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 南开大学 、天津市半导体材料厂 。 GB/T 17169-1997 废止
  基础信息
标准号 GB/T 17169-1997
发布日期 1997-12-22
实施日期 1998-08-01
废止日期 2004-10-14
标准号 GB/T 17169-1997
发布日期 1997-12-22
实施日期 1998-08-01
废止日期 2004-10-14
  起草单位
  南开大学
  天津市半导体材料厂
  起草人
  20243061-T-469  300 mm硅外延片
  GB/T 14139-2019  硅外延片
  SJ/T 11504-2015  碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
  GB/T 14015-1992  硅-蓝宝石外延片
  GB/T 44334-2024   埋层硅外延片
  GB/T 6624-2009  硅抛光片表面质量目测检验方法
  GB/T 35310-2017  200mm硅外延片
  SJ/T 11471-2014  发光二极管外延片测试方法
  GB/T 24575-2009  硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
  GB/T 19921-2018  硅抛光片表面颗粒测试方法
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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