掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC4（全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国科学院微电子中心 。 GB/T 16879-1997 现行 本标准等同采用其他国际标准：SEMI P21:1992。 采标中文名称:。