标准概要

掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems

国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位中国科学院微电子中心。 GB/T 17866-1999 现行本标准等同采用其他国际标准：SEMI P23:1993。采标中文名称:。

基础信息

标准号 GB/T 17866-1999

发布日期 1999-09-13

实施日期 2000-06-01

标准号 GB/T 17866-1999

发布日期 1999-09-13

实施日期 2000-06-01

起草单位

中国科学院微电子中心

起草人

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申明

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