半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法

国家标准《半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、浙江海纳半导体股份有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、北京通美晶体技术股份有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、天津中环领先材料技术有限公司 、北京天科合达半导体股份有限公司 、中电晶华（天津）半导体材料有限公司 、浙江旭盛电子有限公司 、浙江中晶科技股份有限公司 、昆山海菲曼科技集团有限公司 。 主要起草人 何烜坤 、刘立娜 、李素青 、张颖 、马春喜 、张海英 、潘金平 、丁雄杰 、任殿胜 、王元立 、朱晓彤 、张雪囡 、佘宗静 、齐斐 、许蓉 、李明达 、詹玉峰 、黄笑容 、边仿 。 GB/T 6616-2009 （全部代替） GB/T 6616-2023 现行