多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法

国家标准《多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 亚洲硅业（青海）股份有限公司 、内蒙古通威高纯晶硅有限公司 、宜昌南玻硅材料有限公司 、青海芯测科技有限公司 、江苏中能硅业科技发展有限公司 、新疆大全新能源股份有限公司 、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司 、洛阳中硅高科技有限公司 、新疆新特新能材料检测中心有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、江苏鑫华半导体科技股份有限公司 、新疆协鑫新能源材料科技有限公司 。 主要起草人 尹东林 、郑连基 、刘军 、魏东亮 、蔡延国 、李素青 、侯海波 、田洪先 、刘文明 、薛心禄 、王彬 、于生海 、徐岩 、曹岩德 、姜士兵 、邱艳梅 、赵培芝 、万首正 、赵娟龙 、申梅桂 、刘海月 、王春明 。 GB/T 24582-2009 （全部代替） GB/T 24582-2023 现行