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  标准概要

表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 主要起草单位 清华大学电子工程系 。 主要起草人 查良镇 、陈旭 、黄雁华 、王光普 、黄天斌 、刘林等 。 GB/T 20176-2006 现行 20232769-T-469 正在征求意见 本标准等同采用ISO国际标准:ISO 14237:2000。 采标中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度。
  基础信息
标准号 GB/T 20176-2006
发布日期 2006-03-27
实施日期 2006-11-01
标准号 GB/T 20176-2006
发布日期 2006-03-27
实施日期 2006-11-01
  起草单位
  清华大学电子工程系
  起草人
  查良镇
  陈旭
  黄天斌
  刘林
  黄雁华
  王光普
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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