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标准概要
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 主要起草单位 清华大学电子工程系 。 主要起草人 查良镇 、陈旭 、黄雁华 、王光普 、黄天斌 、刘林等 。 GB/T 20176-2006 现行 20232769-T-469 正在征求意见 本标准等同采用ISO国际标准:ISO 14237:2000。 采标中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度。
基础信息
标准号
GB/T 20176-2006
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
标准号
GB/T 20176-2006
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
起草单位
清华大学电子工程系
起草人
查良镇
陈旭
黄天斌
刘林
黄雁华
王光普
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本内容来源于国家标准化管理委员会及相关官方平台,本内容目的仅在于分享交流与学习。
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