碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法

国家标准《碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 安徽长飞先进半导体有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、安徽芯乐半导体有限公司 、南京国盛电子有限公司 、浙江芯科半导体有限公司 、河北普兴电子科技股份有限公司 、中国科学院半导体研究所 。 主要起草人 钮应喜 、袁松 、张会娟 、刘敏 、仇光寅 、李京波 、彭铁坤 、袁肇耿 、杨龙 、闫果果 。 GB/T 42902-2023 现行