硅外延用三氯氢硅

国家标准《硅外延用三氯氢硅》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 洛阳中硅高科技有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、上海亿钶气体有限公司 、南京国盛电子有限公司 、唐山三孚电子材料有限公司 、上海新昇半导体科技有限公司 、上海晶盟硅材料有限公司 、新疆大全新能源股份有限公司 、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司 、武汉新硅科技潜江有限公司 、宜昌南玻硅材料有限公司 、中电晶华（天津）半导体材料有限公司 、昊华气体有限公司 、新疆新特新能材料检测中心有限公司 、青海中航硅材料有限公司 、沁阳国顺硅源光电气体有限公司 、江西晨光新材料股份有限公司 。 主要起草人 万烨 、赵雄 、严大洲 、刘见华 、张园园 、李素青 、李建新 、李飞明 、冯永平 、孙任靖 、张斌 、顾广安 、于生海 、邓远红 、徐岩 、李楷东 、刘文明 、李明达 、付梦月 、邱艳梅 、边红利 、史隽涛 、梁秋鸿 。 GB/T 30652-2014 （全部代替） GB/T 30652-2023 现行