标准概要

工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

国家标准《工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。主要起草单位中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等。主要起草人李跃平、石磊、张树朝等。 GB/T 14849.4-2008 废止 GB/T 14849.4-2014 （全部代替）

基础信息

标准号 GB/T 14849.4-2008

发布日期 2008-06-09

实施日期 2008-12-01

废止日期 2015-08-01

标准号 GB/T 14849.4-2008

发布日期 2008-06-09

实施日期 2008-12-01

废止日期 2015-08-01

起草单位

中国铝业股份有限公司郑州研究院

中国有色金属工业标准计量质量研究所等

起草人

李跃平

石磊

张树朝

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申明

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工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量