标准概要

硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司。主要起草人孙燕、李俊峰、楼春兰、卢立延、张静、翟富义。 GB/T 24578-2009 废止 GB/T 24578-2015 （全部代替）

基础信息

标准号 GB/T 24578-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

废止日期 2017-01-01

标准号 GB/T 24578-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

废止日期 2017-01-01

起草单位

有研半导体材料股份有限公司

万向硅峰电子有限公司

起草人

孙燕

李俊峰

张静

翟富义

楼春兰

卢立延

推荐标准

GB/T 5913-1986 柴油机车车内设备机械振动烈度评定方法

GB/T 31597-2022 城乡居民基本养老保险服务规范

GB/T 39936-2021 深冷保冷用泡沫塑料

GB 24850-2020 平板电视与机顶盒能效限定值及能效等级

GB/T 6693-1997 染料粉尘飞扬性的测定

GB/T 42073-2022 气候风险指数干旱

GB/T 5373-2006 摩托车和轻便摩托车尺寸和质量参数的测定方法

GB 7300.304-2024 饲料添加剂第3部分：矿物元素及其络（螯）合物甘氨酸铁络合物

GB/T 21326-2007 黑鲷亲鱼和苗种

GB/T 18325.1-2001 滑动轴承流体动压润滑条件下试验机内和实际应用的滑动轴承疲劳强度

申明

本内容来源于国家标准化管理委员会及相关官方平台，本内容目的仅在于分享交流与学习。

关键词标签