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硅片厚度和总厚度变化测试方法

Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices
国家标准《硅片厚度和总厚度变化测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 北京有研半导体材料股份有限公司 。 主要起草人 卢立延 、孙燕 、杜娟 。 GB/T 6618-1995 (全部代替) GB/T 6618-2009 现行
  基础信息
标准号 GB/T 6618-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
全部代替标准 GB/T 6618-1995
标准号 GB/T 6618-2009
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
全部代替标准 GB/T 6618-1995
  起草单位
  北京有研半导体材料股份有限公司
  起草人
  卢立延
  孙燕
  杜娟
  推荐标准
  申明
本内容来源于国家标准化管理委员会及相关官方平台,本内容目的仅在于分享交流与学习。
  关键词标签
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