标准概要

硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法

Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer

国家标准《硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。主要起草人孙燕、李莉、卢立延、翟富义、向磊。 GB/T 29505-2013 现行

基础信息

标准号 GB/T 29505-2013

发布日期 2013-05-09

实施日期 2014-02-01

标准号 GB/T 29505-2013

发布日期 2013-05-09

实施日期 2014-02-01

起草单位

有研半导体材料股份有限公司

中国有色金属工业标准计量质量研究所

起草人

孙燕

李莉

向磊

卢立延

翟富义

推荐标准

申明

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