标准概要

用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy

国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。主要起草人王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。 GB/T 29844-2013 现行

基础信息

标准号 GB/T 29844-2013

发布日期 2013-11-12

实施日期 2014-04-15

标准号 GB/T 29844-2013

发布日期 2013-11-12

实施日期 2014-04-15

起草单位

上海华虹NEC电子有限公司

起草人

王雷

伍强

朱骏

陈宝钦

推荐标准

申明

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