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  标准概要

表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
国家标准《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 主要起草单位 中国计量科学研究院 。 主要起草人 王海 、宋小平 、王梅玲 、高思田 、冯流星 。 GB/T 30701-2014 现行 本标准等同采用ISO国际标准:ISO 17331:2004。 采标中文名称:表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。
  基础信息
标准号 GB/T 30701-2014
发布日期 2014-03-27
实施日期 2014-12-01
标准号 GB/T 30701-2014
发布日期 2014-03-27
实施日期 2014-12-01
  起草单位
  中国计量科学研究院
  起草人
  王海
  宋小平
  冯流星
  王梅玲
  高思田
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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