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标准概要
工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4:Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
国家标准《工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》 由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行 ,主管部门为中国有色金属工业协会。 主要起草单位 昆明冶金研究院 、中国铝业股份有限公司郑州研究院 、昆明冶研新材料股份有限公司 、云南出入境检验检疫局技术中心等 。 主要起草人 刘维理 、王劲榕 、李跃平 、赵德平 、杨毅等 。 GB/T 14849.4-2008 (全部代替) GB/T 14849.4-2014 现行
基础信息
标准号
GB/T 14849.4-2014
发布日期
2014-12-05
实施日期
2015-08-01
全部代替标准
GB/T 14849.4-2008
标准号
GB/T 14849.4-2014
发布日期
2014-12-05
实施日期
2015-08-01
全部代替标准
GB/T 14849.4-2008
起草单位
昆明冶金研究院
昆明冶研新材料股份有限公司
中国铝业股份有限公司郑州研究院
云南出入境检验检疫局技术中心等
起草人
刘维理
王劲榕
杨毅
李跃平
赵德平
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