直写成像式曝光设备

国家标准《直写成像式曝光设备》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 、广州兴森快捷电路科技有限公司 、安徽省工业和信息化研究院 、深南电路股份有限公司 、四创电子股份有限公司 、中国电子技术标准化研究院 、合肥矽迈微电子科技有限公司 、深圳市克洛诺斯科技有限公司 、深圳拜波赫技术有限公司 。 主要起草人 何少锋 、陈新 、邱醒亚 、乔书晓 、沈桂珍 、朱颖 、陈黎阳 、方林 、曲鲁杰 、许静平 、陈东 、崔良端 、陆培良 、吴怡然 、曹可慰 、赵俊莎 、李香滨 、严孝年 、鲁男 、李娜 、李照辉 、吴新民 。 GB/T 43725-2024 现行