半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）

国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。 主要起草单位 山东有研半导体材料有限公司 、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司 、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、鸿星科技（集团）股份有限公司 。 主要起草人 王玥 、朱晓彤 、孙燕 、宁永铎 、徐新华 、徐国科 、李春阳 、张海英 、陈海婷 、丁雄杰 、郭正江 。 GB/T 43894.1-2024 现行