标准概要

半导体晶片近边缘几何形态评价第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）

Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）

国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技（集团）股份有限公司。主要起草人王玥、朱晓彤、孙燕、宁永铎、徐新华、徐国科、李春阳、张海英、陈海婷、丁雄杰、郭正江。 GB/T 43894.1-2024 现行

基础信息

标准号 GB/T 43894.1-2024

发布日期 2024-04-25

实施日期 2024-11-01

标准号 GB/T 43894.1-2024

发布日期 2024-04-25

实施日期 2024-11-01

起草单位

山东有研半导体材料有限公司

金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司

广东天域半导体股份有限公司

浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司

中环领先半导体材料有限公司

鸿星科技（集团）股份有限公司

起草人

王玥

朱晓彤

徐新华

徐国科

陈海婷

丁雄杰

孙燕

宁永铎

李春阳

张海英

郭正江

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