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  标准概要

微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
国家标准《微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法》 由TC336(全国微机电技术标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 天津大学 、中机生产力促进中心 、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心 、南京理工大学 、中国电子科技集团公司第十三研究所 。 主要起草人 郭彤 、胡晓东 、李海斌 、于振毅 、裘安萍 、程红兵 、崔波 、朱悦 。 GB/T 34900-2017 现行
  基础信息
标准号 GB/T 34900-2017
发布日期 2017-11-01
实施日期 2018-05-01
标准号 GB/T 34900-2017
发布日期 2017-11-01
实施日期 2018-05-01
  起草单位
  天津大学
  国家仪器仪表元器件质量监督检验中心
  中国电子科技集团公司第十三研究所
  中机生产力促进中心
  南京理工大学
  起草人
  郭彤
  胡晓东
  裘安萍
  程红兵
  李海斌
  于振毅
  崔波
  朱悦
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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