标准概要

半导体制造用气体处理指南

Guide for gaseous effluent handling in semiconductor industry

国家标准《半导体制造用气体处理指南》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位中昊光明化工研究设计院有限公司、西南化工研究设计院有限公司、高麦仪器公司、广东华特气体股份有限公司、东莞市联臣电子科技有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、上海市计量测试技术研究院。主要起草人孙福楠、牛艳东、廖恒易、杜汉盛、王鸿、方华、陈鹰、周鹏云。 GB/T 34971-2017 现行

基础信息

标准号 GB/T 34971-2017

发布日期 2017-11-01

实施日期 2018-02-01

标准号 GB/T 34971-2017

发布日期 2017-11-01

实施日期 2018-02-01

起草单位

中昊光明化工研究设计院有限公司

高麦仪器公司

东莞市联臣电子科技有限公司

上海市计量测试技术研究院

西南化工研究设计院有限公司

广东华特气体股份有限公司

上海华爱色谱分析技术有限公司

起草人

孙福楠

牛艳东

王鸿

方华

廖恒易

杜汉盛

陈鹰

周鹏云

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申明

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