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  标准概要

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
国家标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 江苏中能硅业科技发展有限公司 、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司 、有研半导体材料有限公司 、宜昌南玻硅材料有限公司 、新特能源股份有限公司 、洛阳中硅高科技有限公司 。 主要起草人 鲁文锋 、刘晓霞 、秦榕 、孙燕 、赵而敬 、王桃霞 、赵玉 、王忠慧 、柳德发 、张园园 、银波 、邱艳梅 、刘强 。 GB/T 37049-2018 现行
  基础信息
标准号 GB/T 37049-2018
发布日期 2018-12-28
实施日期 2019-04-01
标准号 GB/T 37049-2018
发布日期 2018-12-28
实施日期 2019-04-01
  起草单位
  江苏中能硅业科技发展有限公司
  有研半导体材料有限公司
  新特能源股份有限公司
  青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司
  宜昌南玻硅材料有限公司
  洛阳中硅高科技有限公司
  起草人
  鲁文锋
  刘晓霞
  赵而敬
  王桃霞
  柳德发
  张园园
  刘强
  秦榕
  孙燕
  赵玉
  王忠慧
  银波
  邱艳梅
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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