标准概要

表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon

国家标准《表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所。主要起草人马农农、何友琴、陈潇、张鑫、王东雪、李展平。 GB/T 40109-2021 现行本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17560:2014。采标中文名称:表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法。

基础信息

标准号 GB/T 40109-2021

发布日期 2021-05-21

实施日期 2021-12-01

标准号 GB/T 40109-2021

发布日期 2021-05-21

实施日期 2021-12-01

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

马农农

何友琴

王东雪

李展平

陈潇

张鑫

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申明

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